科技文献信息查询
服务平台
许昌科技大市场
许昌市科技创新公共服务中心
科技创新公共管理
服务平台
人才引进及技术转移
服务平台
大型科学仪器设施共享
服务平台
创新创业孵化
服务平台
  设为首页 欢迎访问许昌市科学技术情报研究所
您现在的位置: 许昌市科学技术情报研究所 > 科技要闻 > 上级要闻 > 正文
芯片制造关键设备再突破!离子注入机实现全谱系产品国产化
作者:佚名    科技要闻来源:本站原创    点击数:3411    更新时间:2021/3/17         ★★★

芯片制造重要一环取得突破!

中国电科旗下装备子集团日前已成功实现离子注入机全谱系产品国产化

可为全球芯片制造企业提供离子注入机一站式解决方案

中国电科连续突破高性能离子源、高速晶圆传输等“卡脖子”技术

自主研制中束流、大束流、高能、特种应用及第三代半导体等离子注入机

工艺段覆盖至28nm

累计形成核心发明专利413项

实现我国芯片制造领域全谱系离子注入机自主创新发展

有效缓解我国芯片制造领域断链、短链难题

 

 

科技要闻录入:admin    责任编辑:admin 
发表评论】【加入收藏】【告诉好友】【打印此文】【关闭窗口
  • 上一篇科技要闻:
  • 下一篇科技要闻:
  •  

      

    Copyright © 2003 - 2023 许昌市科学技术情报研究所 电话:0374-2965381
    豫ICP备15012589号